Le nettoyage des surfaces joue un rôle important dans la pratique industrielle, par exemple pour augmenter l'adhérence des revêtements. Les procédés de nettoyage chimique humide laissent des traces de produit nettoyant ou de solvant sur la surface, qui ne peuvent être entièrement éliminées même avec un bon rinçage et un bon séchage.
La technologie plasma à basse pression permet toutefois d'obtenir des surfaces exemptes de contaminants organiques. Des temps de traitement de quelques minutes seulement donnent déjà de très bons résultats, avec pratiquement aucun résidu sur les surfaces. Le plasma à basse pression présente l'avantage d'avoir une très grande capacité de pénétration. Cela signifie que même les composants de forme complexe peuvent être parfaitement nettoyés au plasma, car le gaz pénètre également dans les petites cavités qui ne sont pas accessibles aux liquides.
La formation de produits gazeux et donc volatils, qui peuvent être facilement éliminés de la chambre d'échantillonnage, est déterminante pour l'effet de nettoyage au plasma. Les composants du plasma réagissent avec les impuretés organiques et se décomposent en eau et en dioxyde de carbone dès la température ambiante : (-CH2-CH2-)n + 3n O2 « 2n CO2 + 2n H2O